化学发光仪维护界面设计草图与功能说明

来源：文思海辉交付的”注册后优化”阶段维护界面设计文档（两份：0821 草图版 + 附功能说明版）。这是 UI 设计师（均强）出的界面草图配套说明，供软件方评审。文档性质为需求/设计讨论稿，内含大量待确认问题清单。

背景定位

单步调试动作清单（编号为文档原编号）：

规则：所有动作最多 3 个参数；有参数则显示参数名+数据，无参数不显示。样本孔位、反应位置、试剂位均为 1-8。

X/Z 轴：坐标输入（小数点前三位、后两位，单位 mm），实时显示当前位置（只读），X/Z 点动按钮，执行按选中档位速度。
孔位坐标下拉列表（18 个固定点位）：TIP初始位、清洗液、底物、全血/质控、稀释杯架、试剂仓酶标/稀释液、试剂仓磁珠、清洗液1、R2试剂、反应仓全血、反应仓血清、反应仓酶标、反应仓磁珠、反应仓清洗液、反应仓底物、抛TIP位、反应仓清洗液1、反应仓R2。
高度参数表：
- 取液起始/结束高度：磁珠、酶标、稀释液、清洗液、底物、样本、稀释杯（7 类）
- 取 TIP 起始+结束高度；抛 TIP 只有结束高度；注液只有结束高度（无起始）
动作序列示例：
- 目标位置取 TIP：样本架走到指定位置 -> 机械臂走到 TIP 位 -> 取 TIP
- 吸液流程顺序：取样本 -> 取试剂 -> 吸液（取样本时样本架走到 1 号位，取试剂时试剂仓走到 1 号位，按吸液类别决定，机械臂再走到相应位置吸液）
- 抛 TIP：Z 轴归零 -> 走到抛 TIP 位 -> 抛 TIP
- 注液：机械臂走到盘片孔位注液

反应盘：输入步数执行转动；孔位步数保存（1 号位坐标只读显示）；1-8 号孔相邻间隔步数可修改；反应盘点动按键。
盘片孔位下拉：全血、血清、磁珠、酶标、清洗液、底物、清洗液1、R2试剂、PMT位。
PMT 侦测动作链：磁座 Off -> PMT 开 -> 静置 -> 反应盘转到选择孔位 -> PMT 侦测 -> PMT 关。门控时间/检测次数/静置时间可修改，仅侦测一个孔位。
磁座切换初始位置可输入可保存（6 位整数）。
离心：表格配置速度、加速度、时间，离心次数可输入（填 3 = 执行前三段离心）。
光耦状态：一键查询反应区所有光耦。

两级保存语义：界面上所有”保存/设置”按键仅保存参数到 UI 层，不覆盖中位机数据；只有”执行保存所有参数”按键才真正覆盖中位机参数（该按键未画在草图上，可放三区任意空白位）。
单步动作 vs 联动动作：三区动作默认都是单步（只动一个部位）；例外 5 个联动动作：抛TIP、目标位置取TIP、开始吸液、开始注液、PMT侦测。
光耦名称与长度->步数换算：医工所提供，文档要求直接联系医工所，草图上光耦未标全。